清洁和干燥应用的较佳解决方案

普发真空多级罗茨泵为各种应用和市场提供清洁和干燥的真空环境。

例如，小型 ACP 罗茨泵在粒子加速器中形成涡轮分子泵所需的前级真空。具有高抽速和低最终压力的大型 ACP 120 泵可用于冷冻干燥应用。A 100 L 和 A 200 L 是用于装载互锁和传输室的紧凑型干式泵，专为集成到半导体系统或晶圆厂底层地板而开发。A3、ADH 和 A4多级罗茨泵在半导体和涂层行业中被大量用作流程泵。所有这些应用都有一个共同点：它们均需要一个洁净、干燥的真空环境。

在此，多级罗茨泵技术是完美的解决方案。其无摩擦工作泵送模块在转子和定子之间无需润滑剂和密封材料。所以，可以避免烃类蒸汽回流。在泵的吸入室，不处理任何密封材料。这意味着泵里没有粒子，长期可靠且稳定，这将会带来低拥有成本。

多级罗茨泵在洁净工艺上的使用领域

ACP 系列的风冷式罗茨多级泵低维护，性能稳定，与众不同。它们可用于工业或粒子加速器应用以及半导体生产的清洁工艺。

A 100 L 和 A 200 L 紧凑型罗茨泵因其较小的尺寸而可以轻松地集成到系统中。半导体的装载互锁与传输室是这种类型泵的典型应用领域。

ACP 120 系列带有水冷却的多级罗茨泵用坚固的铸造金属制成。就像 ACG 600 系列罗茨泵站一样，它们用于需要较高抽速的研究、开发、真空喷涂和冶金行业。

侵蚀性的应用不成问题

A3P 至 A4XN 系列多级罗茨泵是为半导体和光伏生产的侵蚀性工艺而开发的，在此类应用中，必须传输少量的腐蚀性气体或冷凝物。A3P 和 A3XN 泵紧凑且高能效。低噪音开发和低振动水平是该系列的突出特征。A4 系列多级罗茨泵的抽速可高达 3,000 m3/h，采用防腐材料制成。

媒介耐受性以及高气体流通量使这些多级罗茨泵成为半导体行业 CVD 工艺应用的最佳解决方案。ADH 系列专门为太阳能、半导体和 LED 市场的轻气体和高流量应用工艺而开发，N2 和 H2 的高性能抽速可达 600 至 4,500 m3/h。由于具有优异的抗静态和动态内应力能力，所以泵能提供增强的安全性。